о компании источники и материалы высокочистые материалы
о компании соединения А3В5 материалы и источники высокочистые материалы

полупроводниковые соединения А3В5

GaAs

GaP

InAs

GaSb

InSb

поли GaAs

GaAs для оптики

InAs арсенид индия GaAs арсенид галия поликристаллического методу Бриджмена (HB)

Слитки поликристаллического арсенида галлия по методу Бриджмена получаются путем синтеза галлия и мышьяка в кварцевой лодочке с последующей кристаллизацией методом Бриджмена ( HB ). Чистота исходных материалов не хуже 99.9999%.

InAs арсенид индия GaAs арсенид галия по методу Чохральского ( LEC )

Слитки поликристаллического арсенида галлия по методу Чохральского получаются путем синтеза галлия и мышьяка в тигле из нитрида бора при высоком давлении инертного газа с последующим вытягиванием методом Чохральского ( LEC ) в печи с низким давлением инертного газа. Чистота исходных материалов не хуже 99.9999%.

ПАРАМЕТРЫ ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО МАТЕРИАЛА

легирующая примесь нет
концентрация носителей заряда, см-3 1x1016
чистота*, % 99.9999

* Типичный анализ методом искровой масс спектрометрии ( SSMS ) поставляется по требованию заказчика. SSMS анализ на данную конкретную партию предоставляется за отдельную плату.

ФОРМА И РАЗМЕРЫ

Поликристаллический арсенид галлия имеется в форме целых слитков или частей слитков с поперечным размером до 80мм, а также в виде резанных толстых пластин или измельченных гранул.
Поликристаллические слитки калибруются согласно требованию заказчика, отмываются, упаковываются; все партии сопровождаются Сертификатом Соответствия.

 

home e-mail на главную