о компании источники и материалы высокочистые материалы
о компании соединения А3В5 материалы и источники высокочистые материалы

полупроводниковые соединения А3В5

GaAs

GaP

InAs

GaSb

InSb

поли GaAs

GaAs для оптики

GaP фосфид галлия

cтандартная спецификация
(возможна поставка монокристаллов и пластин с нестандартными параметрами по запросу заказчика)

МОНОКРИСТАЛЛЫ

легирующая примесь нелегированный S
Zn
тип проводимости n n p
концентрация носителей, см -3 ≤1x1016 1x1017 - 2x1018 2x1017 - 2x1018
подвижность, м2/В.с ≥100 ≥60 ≥60
плотность дислокаций, см-2 ≥2x105 ≥2x105 ≥2x105

 

ПЛАСТИНЫ

диаметр, мм 50.8 ± 0.3 76.2 ± 0.3
толщина, мкм 300 ± 15 400 ± 15
ориентация поверхности (100) (111)
точность ориентации ± 0.5° ± 0.1°
отклонение от точной ориентации (1 - 10)± 0.1° в заданном направлении
базовый и дополнительный срезы по стандарту SEMI M9, US SEMI и E/J SEMI
обработка поверхности
лицевая сторона
обратная торона
полированная, годная к эпитаксии
полированная, шлифовано-травленая
упаковка индивидуальная

 

home e-mail на главную